次微米計畫

1. 次微米計畫指開發小於一微米的半導體製作技術的計畫。民國七十九年，為建立完整之半導體產業，引導產業進入次微米時代。經濟部委託工研院電子所籌建次微米實驗室。正式展開為期五年（西元一九九○至一九九五年）的次微米研發工作如下：
   (1)建立一座八吋晶圓，Class 0.1(0.3微米）的世界一流水準的實驗室，以提供開發次微米製程技術。
   (2)在一九九五年以前使中華民國具備：a.0.7/0.5微米整合製程技術。b.0.35微米製程模組技術。
   (3)建立超潔淨技術及八吋晶圓量產型技術。
   (4)建立中華民國極大型積體電路（ULSI）研究發展能力，並對世界IC研究發展的領域有所貢獻。